韓國(guó)三星電子于12月21日宣布，將在日本橫濱市設(shè)立半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)基地。三星將與日本企業(yè)、大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)共同開(kāi)發(fā)尖端半導(dǎo)體制造技術(shù)。鑒于尖端產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)中落后的危機(jī)感日益加深，三星將加快研發(fā)步伐。

　　三星計(jì)劃于2024年在橫濱市的港未來(lái)區(qū)建立“先進(jìn)封裝實(shí)驗(yàn)室(Advanced Package Lab)”，并在未來(lái)5年投入超過(guò)400億日元，日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省將補(bǔ)貼最多200億日元。據(jù)悉，該基地將雇傭100名以上的研發(fā)人員。

　　新基地將負(fù)責(zé)研發(fā)半導(dǎo)體芯片成型、封裝為電子零部件的“后工序”制造技術(shù)。三星將深化與在后工序材料和設(shè)備領(lǐng)域具有優(yōu)勢(shì)的日本企業(yè)的合作。在主原料硅晶圓上繪制微細(xì)電路的“前工序”技術(shù)創(chuàng)新難度增加的情況下，三星力爭(zhēng)通過(guò)改進(jìn)后工序來(lái)提高半導(dǎo)體性能。

　　盡管從銷(xiāo)售額上看，三星是世界大廠，但其在尖端技術(shù)方面已開(kāi)始落后。在曾經(jīng)最賺錢(qián)的主要產(chǎn)品DRAM領(lǐng)域，三星受到韓國(guó)SK海力士的猛烈追趕。

　　根據(jù)調(diào)查公司集邦咨詢(xún)的數(shù)據(jù)，2023年7～9月的DRAM市場(chǎng)份額中，排名第一的三星為38.9%,第二位的SK為34.3%。與去年同期相比，兩家公司的市場(chǎng)份額差距縮小了7.3個(gè)百分點(diǎn)。也有人擔(dān)憂三星可能失去其維持了30年的DRAM首位寶座。

　　借助人工智能技術(shù)的普及浪潮，SK在新一代DRAM方面領(lǐng)先，即可以進(jìn)行高速大容量處理的“HBM(高寬帶內(nèi)存)”。HBM采取將DRAM芯片堆疊起來(lái)的結(jié)構(gòu)，對(duì)后工序的組裝技術(shù)和材料的散熱性能等有要求。

　　此外，在半導(dǎo)體代工業(yè)務(wù)上，三星與臺(tái)積電(TSMC)的差距也在加大。在最尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域，左右今后競(jìng)爭(zhēng)力的后工序技術(shù)也變得更加重要，三星正在急于提高良品率。

　　三星正在尋求與有交易關(guān)系的，在后工序上有優(yōu)勢(shì)的日本公司揖斐電和愛(ài)德萬(wàn)，以及在材料技術(shù)上有優(yōu)勢(shì)的日本新興企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)等的合作。在日韓關(guān)系改善的推動(dòng)下，三星也正在計(jì)劃與材料大廠開(kāi)展共同研究項(xiàng)目。